Integrated Modeling of Chemical Mechanical Planarization for Sub-Micron IC Fabrication

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ISBN/EAN: 9783540223696
First book dedicated to the modeling of CMP for sub-micron integrated circuit (IC) fabricationModeling and simulation are critical to transfer CMP from an engineering 'art' to an engineering 'science'
Autor: Dornfeld, David A. Luo, Jianfeng
EAN: 9783540223696
Sprache: Englisch
Seitenzahl: 336
Produktart: Gebunden
Veröffentlichungsdatum: 07.10.2004
Untertitel: From Particle Scale to Feature, Die and Wafer Scales
Schlagworte: Halbleiter / Elektronik IC

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